第109章 集成电路，成！（求订阅！）（2 / 2）

用最脱俗的话来讲光刻工艺像是一份要冲洗的照片，将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形，最后得到的晶圆就形成了集成电路。

而刘研究员正是按照这光刻工艺来操作的，只见刘研究员操控着光刻胶处理设备小心翼翼地把光刻胶旋涂到晶圆表面，在旋涂时刘研究员连大气也不敢出一声，静静的等待着光刻胶借助离心力的作用伸展到整个硅片表面，在持续旋转甩去多余的光刻胶之后，硅片上就形成了均匀的光刻胶胶膜覆盖层，刘研究员擦了擦额头上出的汗珠，眯起眼睛继续继续着下一个步骤——软烘。

软烘的目的就在于除去光刻胶中残余的溶剂，提高光刻胶的粘附性和均匀性。

在操作完这一个步骤后，最重要的一个环节来了，那就是曝光，利用紫外线让光刻胶的曝光反应，通过遮掩版，将电路图均匀的刻在硅片上。

刘研究员在进行完软烘后，先是暂停了手上的动作，咽了口口水，擦了擦手心的汗，深深呼出口气，继续缓缓地移动这硅片放到紫外灯下，曝光开始了！

在紫外线灯光的照射下，硅片渐渐光滑的表面上出现了遮掩版上电路的痕迹，直到整个流程下来后，刘研究员这才缓缓将疯狂跳动的心脏按压了下来。

看来遮掩版没雕刻错，那接下来的显影和坚膜就相比之下变得简单了起来，等到这些都做完之后，在一旁的郭飞和徐研究员再一次感受到了心脏跳到嗓子眼的感觉，因为最关键的一个步骤来了，之前称曝光是最重要的环节，而整个光刻工艺里最关键的环节就是检测，只有通过检测的硅片才能进行下面的步骤，不合格的则直接再清洗掉之后再重复之前的环节。

只见刘研究员在检测台上检测了半天的硅片后，面带着笑容对着郭飞和徐研究员点了点头，然后继续趁热打铁，开始了最后的两个步骤刻蚀和去胶。

刻蚀机这时就派上了用场，由于很难利用惰性气体制造等离子体轰击光刻胶开出的窗口与硅片发生反应从而去掉暴露的表面材料，所以刘研究员直接采取了通过液态化学剂，用化学方式去除掉表面材料。

过了片刻后，刘研究员一手抓起身上披着的厚棉服不停地挥舞着，高兴大喊着：“成了！成了！”

郭飞和徐研究员都瞪大了眼睛看着手舞足蹈的刘研究员，有些不敢置信的喊道：“成了？真的吗？”

刘研究员从那堆仪器旁边跑了下来，一下子就抱住了郭飞和徐研究员，大声吼道：“成了！真的！我们研究出了第一块大规模集成电路！”

郭飞和徐研究员愣了一会，浑身有些颤抖的大笑了起来，“太好了！成了！成了！”

三个人就像傻子一样站着哈哈大笑起来，引得旁边工作的工人同志们都用诧异的眼神看着这三个人，还以为他们得了失心疯呢！

片刻后，三人走到乘放着那集成电路的仪器旁边，静静地看着这枚简洁却又复杂的小小的硅片，郭飞指着这小小的硅片感慨道：“这么个小东西，却是制造小型电脑，制造数控机床的关键！”

其余两人也点了点头，徐研究员一边竖着大拇指，一边感慨着，“这么小小的东西，却拥有着举足轻重的重要性，有了这个，起码在全世界的工业里咱们都算得上这个！”