第301章 298.这不是必输的局吗？（1 / 2）

张如京说，“下一代的芯片生产工艺我们已经在着手研发了，只不过这个肯定是需要一个时间过程的，估计没有那么快。”

“我们现在使用的光刻机，是全球最先进的193纳米波长光刻机，跟台积电的是一样的。”

说到这里，张如京思考了一下，“这就相当于大家都是雕刻人，使用的工具都是差不多的，最后做出来的产品质量好坏，精密度……靠的就是手艺水平的高低了。

想要生产下一代45纳米的芯片，就目前的设备来看，我们能做的，就是提高手艺，至少在明年我们能够突破60纳米吧。”

张如京抿了一口酒，脸色微红。

“现在中芯国际有几种方式可以提升芯片的精细度，一种就是通过多重曝光的方式，来获得精细度更高的芯片。”

“欸？”曹阳猛然抬起头来，感觉有些震惊。

因为这种技术他在前世都没怎么听说过。

还有这种技术的吗？

“这种方式的确可以制造出45纳米，甚至更低纳米级别的芯片，不过缺点很明显，”张如京说，“多重曝光，对于技术的要求是呈几何指数增长的。

你就相当于在做微雕刻的时候，要在同一个地方连续下刀，而且每一刀都得无比精准。

这是非常困难的事情，同时因为多重曝光，良品率肯定会急剧下降，导致生产成本增大，我估计我们即使能超过台积电，生产出30，20纳米的芯片，可这样的一块芯片想要出售给博米的话，也许价格上面就要高达1000多，甚至2000块钱，估计你们也很难承受。

难以量产，这是目前多重曝光遇到的最大难题，不过我们也在摸索之中，也许过几年我们的多重曝光技术就能取得突破，到时候进行量产也说不定。”

唔……

曹阳托着下巴，陷入了思考之中。

其实他在计算一个问题——

现在中芯国际给博米这边的芯片是90nm，一片380块钱，提升到1000块钱一片45nm，甚至30nm的话，我们好像还是有得赚的，把价格再进行一些提升，通过降维打击，靠芯片碾压苹果建立优势以后再反向推动芯片制造呢？

这条路是否行得通？

“还有一种，”张如京今天有些兴奋，笑着继续说到，“浸润式技术，在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶之间填充高折射率的液体。

台积电现在使用的就是这种光刻方式。

想起来也很有意思，4年前，台积电林本间提出来浸润技术的时候，业内还对此嗤之以鼻，认为这是一种不可能实现的技术方式。

不过到两年前，他们的浸润式技术就研究成功了，我们现在因为没有具体的制作流程和技术，只能靠自己摸索。”

曹阳对此还是有些印象的。

台积电之所以跟其他大厂拉开差距，最重要的原因就是在于林本间发明的浸润式光刻技术。

在这项技术出现以前，世界在微影领域的老大可是东岛的尼康，当时林本间提出来浸入式技术的可行性的时候，相当于打了尼康和IBM一众世界级大佬们的脸。

因为他们还在研究如何使用X光来进行光刻，因为X光比深紫外线的波长更短，可是林本间告诉他们，其实没有那么复杂，在现在的深紫光DUV光刻机的基础上，加一点水浸润一下，通过折射角度的变化就能制造出精细度更高的芯片。

这无疑告诉他们，你们走的路是错的。

IBM和尼康如何能忍受这一点？

都已经投入了几十上百亿美元的研发资金了，突然被人质疑。

任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。林本坚的浸润式光刻，几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀，尼康甚至向台积电施压，要求雪藏林本坚。

巨头的陨落，总是如出一辙。当年柯达最早生产出来了数码照相机，但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务，做出决定——一定要藏好，不能让别人知道。

尼康的智商，在巨大的现有经济利益前消耗殆尽。

虽然现在尼康仍然占据着龙头老大的位置，但是曹阳知道，在不久后的将来，等到台积电的45纳米出现，阿斯麦光刻机在市场占有率上就会将尼康拉下马，让一个巨头陨落。

现在其实已经隐隐然有这种苗头了。

目前中芯国际虽然知道林本间采用了浸润式技术帮助台积电在60纳米以下取得了重大的突破，不过具体的做法和工艺技术，中芯国际是不知道的。

所以现在也是在摸着石头过河的阶段。

“浸润式技术从原理上来说并不复杂，不过还是那个问题，需要时间。”张如京有些愁闷地喝了一口酒，难受地说到，“我们正在尝试使用浸润式技术，明年提升到60纳米水准应该不成问题。”

使用浸润式技术进行芯片制作，就不需要进行多重曝光，良品率是有保障的，生产成本应该跟现在的90纳米芯片差不多。

所以即使明年博米没有45纳米的芯片，也能从中芯国际这边购买到60纳米。

不过曹阳肯定不会就此满足，博米的芯片设计还得继续深挖，要一直保持对苹果的领先，那么之后肯定要先引入台积电的45纳米芯片。

除非中芯国际能够弯道超车。

如果想要实现技术上的突破，超过台积电的话，还得从光刻机本身进行突破。但是我们国家目前为止，并没有能够独立生产光刻机的企业，准确来说是没有独立生产193纳米，甚至更短波段的光刻机水平。

现在是2006年，在光刻机领域当中，东岛的尼康才是老大，而未来的光刻机王者阿斯麦Amsl还没有崛起，第一台EUV光刻机要到2012年才能生产出来。

从时间上来说，或许我们还有机会。

至少曹阳是这么想的。

……

“浸润法是通过改变光的折射来达到更短光波的目的对吧？”曹阳问到。

“对。”张如京笑了笑，“这是个初中物理题，折射光的波长，等于入射光波长除以折射率，折射率越大，那么最后的折射波长就越短。

现在浸润式光刻技术就是通过提升入射介质的折射率和折射角度来分离短波长，从而能够提升芯片的精细度。”

想到这里，曹阳微微一笑，“那为什么不直接采用更短波长的光呢？”

张如京摇了摇头，“不行的，因为之前IBM已经研究过了，X光波对于现在深紫外光来说波长更短，但是在这种情况下，水介质对于X光的折射效果很差，当光达到一定的波长之下，水对于它们来说就不是完全透明的了，就会产生遮挡和噪影，这是没有办法解决的事情。”

“不是，我的意思是，不采用浸润光刻技术，而是干式光刻，但是将光波长缩短到两位数。”曹阳说。

“哈？！”

不只是张如京，在座的各位大佬们都是一副见了鬼的表情。

倪光南、刘强这些本身就是做芯片出身的，华为任总虽然没有从事这方面的技术研发，不过也是略知一二，而且芯片对于整个高新领域来说，就相当于心脏，是不可或缺的东西，怎么着也会跟芯片打交道，没有做过也大概有所了解。

这……

要知道现在能够生产出193纳米的深紫外光就已经是极限了，深紫外光最多能提升到157nm。

如果采用浸润法，用纯净水作浸没液，其折射率为1.44，因此等效波长便从193nm降到了134nm（193nm1.14=134nm），分辨率也因此提高了，工艺节点可以向45-22nm迈进。