阅读历史 |

第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题(1 / 2)

加入书签

[[第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题

800nm制程工艺的专利技术对于GCA来说如同鸡肋,但对于BSEC如同神助,掌握后就能跨越1um制程工艺,拥有800nm制程工艺技术。

拥有了193nm的ArFi准分子激光器的制造技术和800nm制程工艺的专利技术,但BSEC还不能生产自主知识产权的1um制程工艺的光刻机。

为了将来不被美国政府卡脖子,未雨绸缪,BSEC要掌握生产光刻机的三大核心技术:光源系统、光学系统和工作台系统,不断升级换代。

叮嘱邓国辉,BSEC光刻机光源研究所研究清楚GCA生产的193nmArF准分子激光器的工作原理和制造技术,光刻机光源公司自己生产;叮嘱陈伟长,BSEC光刻机光学研究所自己研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光学镜头和反射镜头,光刻机光学公司自己生产。

孙健承诺,BSEC在2年内生产具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机,淘宝控股公司掏钱奖励项目组200万元;在4年内能生产一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线,他从淘宝控股公司持有的BSEC股份中,拿出200万股奖励给做出重大贡献的科技和生产人员,但在规定时间内,完不成任务,就开始裁员!

奖励和裁员双管齐下,管理层、技术人员和普通员工的压力剧增。

邓国辉拿到ArF准分子激光器专利技术,同钱富强仔细研究一番后,如醍醐灌顶,豁然开朗,申请2000万元的研发经费,带领光刻机光源研究所按照GCA提供的技术图纸,消化吸收ArF准分子激光器的专利技术……

1995年2月,经过一年半的攻关,光刻机光源公司生产出一台6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机。

1995年9月,BSEC生产了一条有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线,填补了国内技术空白,打开了国内市场,终于抛掉三年巨亏的不利局面,1995年度实现净利润11600万元。

1996年4月20日,BSEC拿到公开发行新股的额度,6月11日,在鹏城证券交易所公开发行了15000万股新股(其中1000万股职工股),每股发行价6元,融资8.73亿元(扣除发行费用),其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机,0.73亿元用于补充公司流动资金。

当时BSEC研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长,研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。”

“好的,董事长!”

“魏总,公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线,到时,PGCA率先订购一条。”

“好的,董事长!”

------

↑返回顶部↑

书页/目录